FUJI ACD硅胶填料
液相色谱技术被广泛的应用于有机化合物的纯化领域。由于正相的溶剂,如正己烷、乙酸乙酯等对化合物的溶解性好,所以正相的硅胶基质很受使用者的欢迎。但是,具有酸性或者碱性的化合物通常在裸硅胶上的分离很差。虽然Amino和Diol的填料分离碱性化合物效果良好,但是还没有合适的介质用于分离酸性的化合物。因此,富士公司开发出在硅胶表面键合了SO3H基团的填料—ACD Silica,专门适用于酸性化合物的分离。
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     如果用正相的裸硅胶来分离酸性的化合物,需要在流动相中使用含有酸性添加剂的缓冲溶液。这样的流动相如果是用于分析,当然没有问题;但是如果制备的时候出现缓冲溶液,那制备完成后除去缓冲溶液将是一件很麻烦的事情。ACD Silica使用的是“固定化的酸性基团”,其起到了缓冲溶液的作用,因此流动相中就不需要添加TFA的缓冲溶液了。这对于制备来说,具有明显的优势。

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货号

描述

SO3H MB 100-75/200

Chromatorex MB球形硅胶SO3H填料,100Å75-200μm

SO3H MB 100-40/75

Chromatorex MB球形硅胶SO3H填料,100Å40-75μm

SO3H SMB 100-20/45

Chromatorex SMB高纯硅胶SO3H 填料,100Å20-45μm

SO3H SPS 100-5

Chromatorex SPS超纯硅胶SO3H填料,100Å5μm


ACD English.pdf

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