YMC-Triart C8采用新研发的有机混合硅胶基质和最新的表面修饰技术，具有卓越的耐久性。除对常规化合物易于获取良好峰形外，对强配位性化合物和强碱性化合物的分离亦可获得良好峰形。同时由于在5μm、3μm和1.9μm的颗粒径间均具有优秀的再现性，因此可以实现HPLC与UHPLC间方法的轻松转换。   

YMC-Triart C8与标准ODS间由于分离选择性的差异，因此也很适合于考虑通过变化分离行为来获取最佳分析条件的情况。